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浅谈电镀过程铜粉的产生途径

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发表于 2011-6-20 22:44:56 | 显示全部楼层 |阅读模式

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一 前言
8 q" u7 V& J6 M, E# M铜粉是铜镀液中的一价铜离子所形成的,会引发铜镀层粗糙、毛刺和铜粉脱落形成的针孔现象。铜镀层粗糙是否由一价铜离子产生的呢?可向镀液中添加0.03~0.05ml /L的30%双氧水后试镀,如果是一价铜离子引起的,过一段时间又会铜粉,说明一价铜离子很容易产生。此时应检查铜粉的产生途径。+ t! l: L+ `% W. q2 S
二 铜粉的产生途径:9 X# X) `  q5 T. ?
1、先检查磷铜阳极:
" ]1 ^' a$ C0 x& K6 I$ z3 ]: u# `(1)检查磷铜阳极的表面是否有黑膜,如果磷铜阳极的表面无黑膜或黑膜较少,说明磷铜阳极的含磷低,无法控制一价铜离子的产生,形成铜粉,造成铜镀层粗糙。需更换磷铜阳极。$ Y5 Z; C4 E: ^$ N
(2)磷铜阳极不能超出铜镀液液面。因超出液面的磷铜阳极没有黑膜保护,当钛篮内的磷铜阳极渐渐下降时,没有黑膜保护的磷铜阳极落入铜镀液时,很快产生一价铜离子,形成铜粉,造成铜镀层粗糙;另外,没有黑膜保护的磷铜阳极表面易生成硫酸亚铜结晶,落入铜镀液就很快产生一价铜离子,形成铜粉,造成铜镀层粗糙。需控制磷铜阳极的添加量。
4 Q6 e' m# y6 W; ?" r3 G3 K" I(3)电镀槽上导电棒或板上不能有铜结晶粘附,导电棒上的铜结晶本身就是一价铜离子,落入镀液,会迅速产生一价铜离子,形成铜粉,造成铜镀层粗糙。$ D# q3 N9 h7 e# i9 s1 x
2、检查氯离子的含量:6 o6 f1 P8 p, N6 @( K- Y, v- k$ b5 I
(1)氯离子太低,氯离子就不能充分与一价铜离子结合,铜在形成二价铜离子的过程中就不能充分将一价铜离子(氯化亚铜)转换成二价铜离子(硫酸铜),形成铜粉,造成铜镀层粗糙;氯离子的减少主要是来自大阳极面积与小阴极面积而造成的。即在大镀液槽中长期或次数过多地电镀小面积样板和小尺寸板。阴极小所需的二价铜离子也较少,而阳极上相对较多的氯化亚铜沉积在阳极,容易脱落而沉淀或被连续过滤除去而造成镀液中的氯离子减少。
: \' X# n( X3 d4 L6 D(2)氯离子太高时,会形成过量的氯化亚铜,这些过量的氯化亚铜离子就会产生歧化反应,形成铜粉,造成铜镀层粗糙。氯离子的含量的增加主要来自清洗水、添加水等。4 p: c( K( [% E* G2 b( R1 F: ~
(3)氯离子的控制中点为55ppm,控制范围为40~65ppm,当低于35ppm时,就要开始添加氯离子;当氯离子高75ppm时,就要做好降低氯离子的准备工作。6 p  G6 N, G, Z+ r5 u& }, Z* M
文章关键词: 电镀
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