材料生产设备--MPCVD薄膜制备装置

优普莱

适合的应用：
化学气相沉积法制备石墨烯薄膜、碳纳米管薄膜、富勒烯、金刚石膜和类金刚石膜等高品质碳纳米薄膜材料；
化学气相沉积法制备其他高品质无机薄膜；
8 U0 R8 p# m1 F% k8 i4 J等离子体清洗、微波烧结、金属表面强化和高聚物表面改性等。
# d% Z# X1 I3 `7 B- G
$ F& C# A4 ]( \- T( C2 {产品特点：
6 p! e$ p. k; w8 a7 {微波频率2.45GHz，微波功率连续可调，可长时间连续工作；
% v5 z) G, @0 d8 ]: }8 B微波等离子体装置能量转化效率高，等离子体活性强密度高，无电极放电，从而避免了电极污染；
1 `& l$ [- y8 i) Q0 H: w产品功率从1kw到5kw，有石英管式、石英钟罩式和金属谐振腔式等多种产品形式；
1 A1 X# s! D8 v2 w# F1 A3 |1 _9 O7 X产品配有可升降的基片台和反应气体均流措施，改善了沉积环境；
基片台可选加热和水冷配置以及偏压电场；
( M9 a. P9 x2 s* i* [, _两路至四路气体可选，气体流量控制采用MFC或转子流量计，气路管道电化学抛光；
配备冷却水循环系统，无水源要求，确保装置高功率下长时间安全稳定运行；
采用干式／湿式机械真空泵，可选配扩散泵与涡轮分子泵。



+ L& ]- s) b* V# J+ O( Y4 A5 g